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日本三明電子sanmei三維抗蝕劑涂布裝置DC111
設備是為MEMS器件和各種半導體研究開發的噴涂機。
1，支持MEMS器件
2，在不平坦的表面上均勻涂膜厚度
3，通孔和溝槽填充應用
4，配有加熱器內置的樣品架。樣品溫度gao可控制在100°C。
5，伺服電機使用我們的“ Si-servo”，它具有低振動，低熱量產生和高精度的特點。
6，特殊規格也可提供。
1.可以進行高精度，均勻的膜厚涂布?
使用可以制成微粒的噴嘴，即使在常規旋涂器難以涂覆的區域，例如基材的傾斜表面，梯形和直角頂點，也可以形成均勻的膜。
另外，可以將內嵌的抗蝕劑施加到微調器難以實現的空腔，通孔和溝槽結構上。
適用的膜厚從旋轉器級薄膜到超厚膜。膜厚度可以為1μm至600μm。（取決于化學性質。）
2.可以使用多種化學溶液
它支持AZ電子材料的AZ-P4000系列，Kayak Microchem Co.的SU8，KMPR系列等，
以及苯并環丁烯樹脂（BCB）和各種聚合物。
也可以使用高粘度化學品。（取決于化學性質。）
3.減少化學藥品的浪費
由于它被涂到小的必要表面上，因此不會浪費化學液體，例如旋涂。
另外，由于注射器被放置在噴霧單元附近，因此藥液管線中的廢物少。
日本三明電子sanmei三維抗蝕劑涂布裝置DC111
| 項目 | 規范 |
|---|---|
| 設備*名稱 | DC111 |
| 噴涂機 | |
| 格式 | 噴嘴移動/樣品固定噴涂方法 |
| 樣品臺尺寸 | DC111：220×220mm□ |
| 噴嘴移動范圍 | DC111：垂直和水平300毫米 |
| 噴嘴移動速度 | 10-300毫米/秒 |
| 化學品體積控制系統 | 通過化學空氣進料和微針 |
| 顆粒大小 | 大約5-15μm（取決于所用的流體） |
效用
| 項目 | 規范 |
|---|---|
| 清潔干燥的空氣 | 5Kg / cm 2（≒0.5Mpa）15升/分鐘以上 （氣管連接口Φ6mm一觸式接頭） |
| 電源供應 | DC111：1ΦAC100V 1800瓦 |
| 排氣 | 外部排氣量2300升/分鐘 （連接管直徑Φ100mm） |
外形尺寸和重量
| 項目 | 內容 |
|---|---|
| 身體尺寸 | DC111：1000 x 650 x 680毫米（高x闊x深） （不包括突起） |
| 重量 | DC111：100公斤 |
