真空蒸鍍裝置VE-2013的特點
VE-2013是一款簡單的真空蒸鍍裝置，繼承了VE-2030（我公司制造）的概念。外殼內置TMP，實現緊湊外殼。由于是臺式機，所以不會占用太多空間。RP 放置在地板上。
我們使用緊湊的 TMP+RP 排氣系統以低廉的價格提供清潔、高真空的蒸發系統。它消除了復雜的排氣操作，只需觸摸面板開關的ON/OFF控制即可實現全自動。
使用鎢籃可以沉積金、鋁、鉻、銀等。碳蒸鍍采用夾具蒸鍍槍型，使用特殊碳（ SLC-30 ）進行蒸鍍。（不能使用φ5mm碳棒。）
購買時，您可以選擇碳氣相沉積電極或金屬氣相沉積電極。可以選擇購買額外的電極。
主要產品規格
| 物品 | 規格 |
| 電源 | AC100V（單相100V15A） |
| 設備尺寸 | 寬428mm，深430mm，高550mm （設備重量38kg） |
| 旋轉泵（外部） | 抽速50?/min (G-50DA) (重量11kg) |
| 渦輪泵（內置裝置） | 排氣速度67?/秒 |
| 樣品臺 | 直徑72毫米 |
| 氣相沉積源-樣品臺距離 | 可調范圍：0mm 至 140mm |
